义渠骇沛星互動科技Appier於第32屆美國人工智慧年會(AAAI)中，針對「AI創造力」發表前瞻性研究，展現AI在服裝搭配與設計領域的突破性進展。許多人認為，人工智慧技術的下一個重大突破將實現在其創造與設計能力，而Appier這次的研究則實踐該想法，在不久的將來，AI將能掌握設計脈動並貢獻各種創意構想，成為設計師的得力助手。
今年代表Appier參與AAAI的研究團隊是由Appier資料科學家施詠翔、張楷岳、Appier首席資料科學家林軒田和國立清華大學電機系孫民教授所組成。團隊透過深度學習技術設計Projected Compatibility Distance(PCD)數學模型去自動學習與分析服飾搭配原則，了解服飾造型之間的搭配關係與技巧，讓機器擁有類似人類的創意以及穿搭思維。
同時，團隊將PCD模型接上生成對抗網(Generative Adversarial Networks,GANs)，讓電腦透過辨識與分析現有的圖像，產生獨特新穎的設計服飾。這些由AI所設計的服飾，能夠真實反映出設計師的創意與搭配技巧。
Appier執行長暨共同創辦人游直翰表示：「這次Appier團隊的研究，展現AI在實現創造力方面的重大進展。一直以來，Appier希望將AI帶到人類生活的各個面向，其中也包含了創意的展現。不過，這並不代表AI將帶來威脅，相反地，它將能為設計師提供許多協助。Appier鼓勵所有員工針對各種具有研究價值與發展潛力的AI創新研究專案與學界進行交流，進而消弭產學間的資訊落差。這次團隊所合力完成的前瞻性研究論文能被AAAI所收錄，就是一個藉由產學合作激發AI創新研發能量的實例。」
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